キオクシア：当社技術者が2023年度「JWEF女性技術者に贈る奨励賞」を受賞

東京--(BUSINESS WIRE)--（ビジネスワイヤ） --キオクシア株式会社の女性技術者が、日本女性技術者フォーラム（JWEF：Japan Women Engineers Forum）主催の2023年度「JWEF女性技術者に贈る奨励賞」を受賞し、10月28日（土）の授賞式および記念シンポジウムにて表彰されました。今回の受賞は、2018年の「審査員特別賞」に続くものです。

受賞者

メモリ技術研究所 デバイス技術研究開発センター　デバイス技術開発第一部　デバイス技術第二担当　主務

有吉 恵子

同賞は、その働きにより、既存の社会や職場での意識や風習を変革する成果をあげた若手女性技術者を表彰し、ロールモデルとして提示することを目的としています。

今回は、技術者として、米国での共同開発や、多様なバックグラウンドを持つメンバーとの積極的なコミュニケーションによって課題を解決してきた実績と、業務時間に制約のある中で常に進捗を意識し、しっかりと成果を出す働き方を示したことが、女性技術者のロールモデルとして評価され、受賞の運びとなりました。授賞式では、「何とかなる～どこでも咲ける花になる～」というタイトルで、多様なチームメンバーとの研究開発で培ったコミュニケーション能力や他者への想像力、ワーク・ライフ・バランスで直面した壁とブレークスルー、多様な働き方の可能性について講演を行いました。

キオクシアは今後も、すべての従業員がその能力を十分に発揮できる働きやすい職場環境をつくり、多様な人材が成長し、一体感を持って最高のアイデア・活動を生み出すより良い企業風土を創ることを目指します。

当社の女性活躍推進の取り組み

https://www.kioxia-holdings.com/ja-jp/sustainability/social/diversity.html

日本女性技術者フォーラム：

http://jwef.jp/index.html

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本資料に関するお問い合わせ先：

キオクシア株式会社

コーポレートコミュニケーション部

山路 航太

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