ギガフォトン、最新モデルKrF光源「G60K」量産開始

光源最先端技術投入により、稼働率向上、サステナビリティー対応に大きく貢献

栃木県小山市--(BUSINESS WIRE)--（ビジネスワイヤ） -- 半導体リソグラフィ用光源メーカーであるギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 浦中克己）は、新型KrF露光装置用光源「G60K」の量産を開始したと発表しました。

世界的な半導体不足が依然として続く中、RF通信処理や車載半導体等に使われる40nm以前の成熟したノードへの半導体需要増、また3D NAND生産技術におけるレイヤ数拡大による容量増大を受け、KrFリソグラフィ需要は2023年までに240%の拡大（2019年対比）が予想されています。*

2020年11月の出荷以来、多くのユーザーから好評を得ているギガフォトンの新型KrFリソグラフィ光源G60Kは、高い需要に応えるべく今年11月より量産を開始しました。G60Kの大きな特長は、業界の求める稼働率向上と環境に対するサステナビリティーを提供していることです。稼働率向上は、60ワットの高出力による露光装置の処理能力向上と、モジュールの耐久性向上によるメンテナンス機会低減を同時にかなえることにより実現しました。改良した新型電源は、消費電力5%以上の削減を実現し、サステナビリティーと同時にユーザーのコスト削減も提供します。また、G60Kのプラットフォームは出力90ワットまで拡張可能となっており、今後のさらなるスループット向上のニーズにも対応可能です。

ギガフォトン代表取締役社長兼CEOの浦中克己氏は、こう述べています。「ギガフォトンは、成熟したプロセスノード世代に対しても開発投資を行い、最先端技術を駆使した製品を提供して、お客様の稼働率向上とサステナビリティーに貢献していきます。」

* 自社におけるKrF露光装置による半導体ウエハー処理枚数分析

前回のG60Kニュースリリースはこちら

ギガフォトンについて

ギガフォトンは、半導体リソグラフィ用DUV光源の開発・製造のリーディングカンパニーとして、設立当初から最先端技術を駆使した多くのソリューションを世界の半導体メーカーへ提供しています。また、EUV光源およびリソグラフィ以外の分野に向けたDUV光源の開発にも取り組んでいます。ギガフォトンは研究開発から製造・販売・保守サービスまで、豊富な知識と経験を持った専門家集団として、常にユーザーの目線に立った業界最高水準のサポートを提供し続けていきます。

詳細はwww.gigaphoton.com をご覧ください。

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